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射鍍膜
濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
離子鍍膜
即干式螺桿真空泵廠家已經(jīng)介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術基礎上發(fā)展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被發(fā)物質（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。
真空卷繞鍍膜
真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術，以實現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。
上述四種都屬于物理氣相沉積技術應用（PVD）。
接下來是化學氣相沉積（CVD）。它是以化學反應的方式制作薄膜，原理是一定溫度下，將含有制膜材料的反應氣體通到基片上并被吸附，在基片上產生化學反應形成核，隨后反應生成物脫離基片表面不斷擴散形成薄膜。
束流沉積鍍，結合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術的離子表面復合處理技術，是一種利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度下，形成具有良好特性薄膜的技術。
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