真空鍍膜技術(shù)是氣相物理沉積的方法之一，也叫真空電鍍。是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱鍍膜材料使之升華，蒸發(fā)粒子流直接射向基體，在基體表面沉積形成固體薄膜。

　　真空鍍膜的應(yīng)用廣泛，如真空鍍鋁，在塑料等基體上進(jìn)行真空鍍，再經(jīng)過(guò)不同顏色的染色處理，可以應(yīng)用于家具、工藝品、燈飾、鐘表、玩具、汽車(chē)燈具、反光鏡及柔軟包裝材料等產(chǎn)品制造中，裝飾效果十分出色。

真空鍍膜技術(shù)基本原理

　　真空鍍膜過(guò)程簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。

　　但在實(shí)際輝光放電直流濺射系統(tǒng)中，自持放電很難在低于1.3Pa的條件下維持，這是因?yàn)樵谶@種條件下沒(méi)有足夠的離化碰撞。因此在低于1.3～2.7Pa壓強(qiáng)下運(yùn)行的濺射系統(tǒng)提高離化碰撞就顯得尤為重要。提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來(lái)提供，而不是靠陰極發(fā)射出來(lái)的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場(chǎng)的方式提高已有電子的離化效率。

　　事實(shí)上，真空鍍膜中二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)，在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離靶材，最終沉積在基片上。

真空鍍膜就是以磁場(chǎng)束縛而延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)路徑，改變電子的運(yùn)動(dòng)方向，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片，真空室內(nèi)壁及靶源陽(yáng)極也是電子歸宿，因?yàn)橐话慊c真空室及陽(yáng)極在同一電勢(shì)。磁場(chǎng)與電場(chǎng)的交互作用(EXB drift)使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀，而不是僅僅在靶面圓周運(yùn)動(dòng)。