真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支,在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。為了讓大家更詳細(xì)的了解真空鍍膜的應(yīng)用,今天小編詳細(xì)為大家介紹真空鍍膜應(yīng)用的主要幾種方法,希望對大家有用!真空鍍膜應(yīng)用,簡單地理解就是在真空環(huán)境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式,真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜,它的主要方法包括以下幾種:
其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì),使其氣化或升華,蒸發(fā)離子流直接射向基片,并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。
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