真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。如果真空鍍膜的目的是為丁改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能，則這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分?，F(xiàn)就其幾個(gè)主要府用方面做一簡(jiǎn)單介紹。

　　首先在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作仟何預(yù)期比例的反射或透射材料，也可以做成對(duì)某種波長(zhǎng)的吸收，而對(duì)另一波長(zhǎng)的透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開始，一直到新型建筑物的大宙鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用于照相機(jī)和電視攝像機(jī)的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的集成電路，包括存儲(chǔ)器、運(yùn)算器、高速邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導(dǎo)體激光器、約瑟夫遜器件、電荷鋁合器件(CCD)也都用到各種薄膜。在顯示光器件方面，錄像磁頭、高密度錄像帶以及平面顯示裝置的透明導(dǎo)電膜、攝像管光導(dǎo)膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜制備。在元件方面，在真空中蒸發(fā)鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化欽等可以制造電容器，蒸發(fā)硒可以得到靜電復(fù)印機(jī)用的硒鼓、蒸發(fā)銑酸鋇可以制造磁致伸縮的超聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導(dǎo)膜和慣性約束聚變反應(yīng)用的微珠鍍層。此外還可對(duì)珠寶、鐘表外殼表面、紡織品金屬花紋、金絲銀絲等蒸鍍裝飾用薄膜，以及用于濺射鍍或離子鍍對(duì)刀具、模具等制造超硬膜。近兩年內(nèi)所興起的多弧離子鍍制備銥金制航，如不銹鋼薄板、鏡面板、僵柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄桿等白前正在盛行。